欧姆龙成功事例 涂胶显影机上的温度操控事例：使用温度均一技能，削减调温时的人工依靠

  涂胶显影机是芯片制作中光刻工艺段的关键设备，大多数都用在在晶圆标明发生超薄光刻胶膜。其工艺大致上能够分为两个过程：涂胶和烘烤坚膜。

  涂胶工艺是经过点胶头将光刻胶滴涂到晶圆外表，由真空吸盘吸附晶圆并非常快速地旋转，完成光刻胶的均匀涂覆。匀胶完成后进行烘烤坚膜工艺，经过热盘加热使光刻胶中的有机溶剂蒸发，终究构成均匀的超薄胶膜。

  经过优化算法&MATLAB完成温度均一主动补偿算法，使各分区控温精度到达了±0.05℃，猜测Rmin为0.275，时刻为2秒，完成对人工调盘的代替。

  ■ 温度操控技能深度赋能半导体制作全流程，其立异使用已到达职业领先水平，有用协同提高产业链自主化才能。

  ■ 经过设备功能优化与主动化才能晋级，完成特定工序从人工调整向全主动化的转型，优化人力资源配置，支撑质量精益化办理方针的完成。

  ■ 欧姆龙供给的技能上的支撑和调试服务，使各分区控温精度到达±0.05℃，温度均一性目标R=0.28，显着提高了设备全体功率和工艺质量。

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